EBVD500/600高真空电子束蒸发镀膜机

应用方向：科研、小批量生产

适用范围：半导体、光学、新能源光伏

设备特点：

★工艺稳定性及重复性好

★样品台定制：平板式、穹顶式、行星式

产品参数：

★EBVD500腔体尺寸：φ500x600（H）（单位：mm）

★EBVD600腔体尺寸：φ600x750（H）（单位：mm）

★EBVD500样品台尺寸φ200

★EBVD600样品台尺寸φ300

★极限真空：≤8x10-5Pa

★设备保压：保压12小时≤10pa

★衬底：加热或水冷可选

★蒸发距：在线可调

★电子枪：E型

★电子枪功率：8-10kw

★电子枪坩埚：6穴，20cc

★清洗功能：考夫曼离子源选配

★膜厚控制方式：膜层终厚控制、速率及膜层终厚控制可选

★EBVD500镀膜不均匀性：φ200内±5%

★EBVD600镀膜不均匀性：φ300内±5%

★控制方式:全自动或半自动控制可选