承载真空技术,宽广科技之路

EVD400高真空电阻蒸发镀膜机

应用方向:科研与教学


用途:制备金属、无机物及有机物薄膜等


设备特点:

★一体化设计,性能稳定

★可定制各类专用蒸发舟,适于多种特殊材料镀膜

★具备功能可拓展空间


产品参数:

★腔体尺寸:400(L)×400(W)×450(H)(单位:mm)

★极限真空:≤6.67×10^(-5)Pa

★衬底:加热或水冷可选

★掩膜版:提供定制

★蒸发源数量:6组(兼容金属蒸发和有机蒸发数量可选)

★膜厚控制方式:膜层终厚控制、速率及膜层终厚控制可选

★镀膜不均匀性:100×100mm内±5%

★控制方式:全自动或半自动可选

电话