应用方向：科研与教学

适用范围：金属、非金属、化合物等薄膜

设备特点：

★设备结构紧凑，配置灵活

★设备可单靶溅射或多靶溅射

产品参数：

★腔体尺寸：φ500x500（H）（单位：mm）

★极限真空：≤6.67x10-5Pa

★衬底：加热或水冷可选

★溅射靶及数量：3英寸，3套；兼容直流脉冲及射频溅射电源，高度及角度可调；

★溅射电源：3台，电源类型根据实际需求选配

★镀膜不均匀性：φ150mm内±5%

★清洗功能：偏压或离子源清洗可选

★控制方式:全自动或半自动控制可选